취업 · 삼성전자 / 생산기술

Q. 실제 현업에서도 Photo 공정에서 PR spin coating 전에 HMDS 처리를 진행하는지 궁금합니다.

저는 대학원생이고, 저희 실험실에는 HMDS vapor prime oven이 없어서 HMDS solution을 사용하여 spin coating을 통해 진행하고 있습니다. 일단 저는 Etch가 안되는 Pt 소재의 전극이 있는 쪽을 연구 중이라 Pt를 Deposition 하기 위해 Lift-off 공정(PR을 먼저 형성 후 그 위에 metal deposition)을 진행 중인데 HMDS spin coating을 진행하게 되면 PR의 adhension은 확실히 개선되는데, metal deposition 후 Lift-off를 위해 acetone에 넣으면 metal층까지 다 뜯겨져 나가버립니다. 아마 HMDS layer도 acetone에 영향을 받아서 그런 것으로 추정합니다. Q1) 실제 삼성전자와 같은 현업에서도 Photo 공정에서 PR spin coating 전에 HMDS 처리를 진행하는지 궁금합니다. Q2) 혹시 위의 문제점에서 개선할 수 있는 방안이 있다면 고견 부탁드립니다.